Современные классические методы хромирования из твёрдой, жидкой, газовой фазы, а так же вакуумный метод хромирования имеют существенные недостатки – высокие значения энергоёмкости и длительности технологического процесса, низкую экологичность, что значительно увеличивают себестоимость технологического процесса. Микротвёрдость хромированного слоя составляет 700-800 Н₁₀₀.

Лазерно-плазменная технология позволяет в значительной мере устранить вышеперечисленные недостатки и позволяет проводить хромирование при атмосферных условиях. Внешний вид шлифа хромированного поверхностного слоя толщиной 10 мкм показан на рис. 1.

Рис. 1. Внешний вид шлифа хромированного поверхностного слоя произведённого лазерно-плазменным методом

Микротвёрдость хромированного слоя Н₁₀₀ 1100 – 1200, что практически невозможно достичь при классических методах хромирования. Производительность процесса 10²...10³ мм²/сек при толщине хромированного слоя 10 мкм и мощности луча лазера 3 кВт.